დ. და დე დი დნ
დაკ დალ დამ დან დას დაფ დაქ დაყ დაშ დაწ

დალექვა აირული ფაზიდან/პლაზმურ-ქიმიური

E. plasma-enhanced chemical vapor deposition
Rus. плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
ორთქლის ფაზიდან თხელი ფირების ქიმიური დალექვის პროცესი დაბალი წნევის დროს მაღალი სიხშირის პლაზმის გამოყენებით.
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022.
to main page Top 10FeedbackLogin top of page
© 2008 David A. Mchedlishvili XHTML | CSS Powered by Glossword 1.8.9