E. plasma-enhanced chemical vapor depositionRus. плазменно-химическое осаждение из газовой фазы ორთქლის ფაზიდან თხელი ფირების ქიმიური დალექვის პროცესი დაბალი წნევის დროს მაღალი სიხშირის პლაზმის გამოყენებით.
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022.