E. Physical Vapor Deposition; PVDRus. метод PVD ნანოდანაფარის დასმის მეთოდი (ფიზიკური გაფრქვევა და დალექვა), რომლის დროსაც, ღრმა ვაკუუმში სითბური ენერგიის მიწოდებით ან ნაწილაკებით დაბომბვისას, დანაფარის მასალა (ლითონები, შენადნობები ან ქიმიური ნაერთები) მყარი მდგომარეობიდან გადადის აირულ ფაზაში და შემდეგ ფუძეშრის ზედაპირზე ილექება (კონდენსირდება). ამ მეთოდს მიაკუთვნებენ აგრეთვე იონურ პლაკირებასა და კათოდურ გაფრქვევას (იონურ-პლაზმურ გაფრქვევას).
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022.