მ. მა მდ მე მი მო მრ მუ
მეზ მეთ მემ მეტ მექ

მეთოდი/PVD

E. Physical Vapor Deposition; PVD
Rus. метод PVD
ნანოდანაფარის დასმის მეთოდი (ფიზიკური გაფრქვევა და დალექვა), რომლის დროსაც, ღრმა ვაკუუმში სითბური ენერგიის მიწოდებით ან ნაწილაკებით დაბომბვისას, დანაფარის მასალა (ლითონები, შენადნობები ან ქიმიური ნაერთები) მყარი მდგომარეობიდან გადადის აირულ ფაზაში და შემდეგ ფუძეშრის ზედაპირზე ილექება (კონდენსირდება). ამ მეთოდს მიაკუთვნებენ აგრეთვე იონურ პლაკირებასა და კათოდურ გაფრქვევას (იონურ-პლაზმურ გაფრქვევას).
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022.
to main page Top 10FeedbackLogin top of page
© 2008 David A. Mchedlishvili XHTML | CSS Powered by Glossword 1.8.9