E. chemical vapour deposition (CVD)Rus. химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ) ფირების ან ფხვნილების მიღების პროცესი, თერმული დაშლის რეაქციების და/ან ფუძეშრეზე ერთი ან რამდენიმე საწყისი აირული ნივთიერების ურთიერთქმედებების შედეგად.
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022