დ. და დე დი დნ
დ. დ./ დ.;

დალექვა ALD/ატომურ-შრეობრივი

E. atomic layer deposition (ALD)
Rus. атомно-слоевое осаждение (АСО)
ერთგვაროვანი კონფორმული ფირების მიღების პროცესი, საწყისი მასალების ციკური დალექვით ფუძეშრეზე თვითშეზღუდული ქიმიური რეაქციების დროს, რაც საშუალებას იძლევა აკონტროლოთ დეპონირებული ფენის სისქე.
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022
to main page Top 10FeedbackLogin top of page
© 2008 David A. Mchedlishvili XHTML | CSS Powered by Glossword 1.8.9