E. atomic layer deposition (ALD)Rus. атомно-слоевое осаждение (АСО) ერთგვაროვანი კონფორმული ფირების მიღების პროცესი, საწყისი მასალების ციკური დალექვით ფუძეშრეზე თვითშეზღუდული ქიმიური რეაქციების დროს, რაც საშუალებას იძლევა აკონტროლოთ დეპონირებული ფენის სისქე.
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022