ფოტორეზისტი

სინათლის ან რენტგენული სხივებისადმი მგრძნობიარე მასალა (პოლიმერულ ფუძეზე დამზადებული). იგი გამოიყენება ლითოგრაფიულ პროცესში ფუძეშრეზე აფსკური დანაფარის (ფირის) დასატანად, ელექტრონული სქემის ელემენტებიანი „ნიღბის“ (თარგის, შაბლონის) დასხივებისა და შემდგომი გამჟღავნებისას (ამოჭმა ხსნარში) სქემის გამოსახულება გადაეცემა ფუძეშრეს.