E. cryogenic etchingRus. криогенное травление ფუძეშრიდან მასალის ზედაპირული შრის მოცილების მართული პროცესი მისი გაცივებით 163 K ტემპერატურაზე ან ქვემოთ, რომლის დროსაც შესაძლებელია ობიექტის სტრუქტურის ელემენტების თითქმის ვერტიკალური ფორმირება.
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022