ა. აბ აგ ად აე ალ ამ ან აო არ ას ატ აფ აქ აღ აწ
ა. ა./ ა.;

ამოჭმა/მაღალი სიმკვრივის პლაზმით

E. high-density plasma etching
Rus. травлениеплазмой высокой плотност
პლაზმით ამოჭმა 1011იდან 1012-ამდე იონ/სმ3 სიმკვრივის იონების ნაკადით, რომელიც მიიღება ელექტრონულ-ციკლოტრონული რეზონანსის საფუძველზე პლაზმის ჰელიკონური წყაროთი, მაგნეტრონით ან ინდუქციურად წარმოქმნილი პლაზმით.
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022
to main page Top 10FeedbackLogin top of page
© 2008 David A. Mchedlishvili XHTML | CSS Powered by Glossword 1.8.9