reactive ion etching (RIE)
реактивное ионное травление (РИТ)
პლაზმური ამოჭმა პლაზმის დამუხტული იონების ნაკადით, აჩქარებული ძაბვის უარყოფითი პოტენციალით (რეაქტორის იზოლირებულ კედლებთან შეფარდებით), რომელიც წარმოიშვება მაღალი სიხშირის ძაბვის მიწოდებისას იმ ელექტროდზე, რომელზეც განთავსებულია ფუძეშრე.
Source: ნანომეცნიერებისა და ნანოტექნოლოგიების ტერმინთა განმარტებითი ლექსიკონი: ქართულ-ინგლისურ-რუსული/ომარ შურაძე. საქართველოს პარლამენტის ეროვნული ბიბლიოთეკა. თბილისი 2022